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J-GLOBAL ID:200903064770332919

シリカ系被膜形成用コーティング組成物および被膜付基材

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴木 俊一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994150958
Publication number (International publication number):1995102217
Application date: Jul. 01, 1994
Publication date: Apr. 18, 1995
Summary:
【要約】【構成】 特定の繰り返し単位を少なくとも有する1種または2種以上のポリシラザンと、フェノール化合物とを反応させて得られる改質ポリシラザンを含有するシリカ系被膜形成用コーティング組成物、および該コーティング組成物を用いて形成されたシリカ系被膜を有する被膜付基材。【効果】上記コーティング組成物を基材上に塗布して得られた塗膜を乾燥・焼成すると、被塗布面の凹凸が高度に平坦化された被膜付基材が得られる。
Claim (excerpt):
下記一般式[I]【化1】(式中、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基である。)で表わされる繰り返し単位を少なくとも有する1種または2種以上のポリシラザンと、フェノール化合物とを反応させて得られる改質ポリシラザンを含有することを特徴とするシリカ系被膜形成用コーティング組成物。
IPC (4):
C09D183/16 PMM ,  H01L 21/316 ,  C08G 77/48 NUM ,  G02F 1/1333 505
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭63-250012
  • 特開平2-036220

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