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J-GLOBAL ID：200903064781247638
粒度分布測定装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西田 新
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991342680
Publication number (International publication number)：1993172730
Application date： Dec. 25, 1991
Publication date： Jul. 09, 1993
Summary：
【要約】【目的】 極めてシンプルな光学系の構造のもとに、広い角度範囲で回折/散乱光を測定して微粒子領域を高精度に測定することが可能で、かつ、乾式測定にも適用可能な粒度分布測定装置を提供する。【構成】 ピンホールとコリメータレンズ有するタイプのビーム成形光学系の、そのコリメータレンズのピンホール側の焦点上で、かつ、照射レーザ光の光軸と直交する平面上にフォトセンサアレイを設け、コリメータレンズで集光された後方散乱光の測定を可能とする。
Claim (excerpt)：
レーザ光源と、このレーザ光源からの出力光を平行ビームに成形して分散飛翔状態の被測定粒子群に照射するビーム成形光学系と、このレーザビームの被測定粒子群による回折/散乱光を集光すべく被測定粒子群を挟んで上記ビーム成形光学系の反対側に配置された集光レンズ、および集光された回折/散乱光を入射してその空間強度分布を測定するフォトセンサアレイを備えた装置において、上記ビーム成形光学系が、ピンホールとこのピンホールを通過したレーザ光を平行にするコリメータレンズを備えているとともに、このコリメータレンズの上記ピンホール側の焦点上で、かつ、照射レーザビームの光軸と垂直な平面上には、被測定粒子群によって上記ビーム成形光学系側に散乱した散乱光の空間強度分布を測定するためのフォトセンサアレイが配設されていることを特徴とする粒度分布測定装置。
Patent cited by the Patent：
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