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J-GLOBAL ID：200903064836932998

ウェブ基材上に多層組織の薄膜を形成する方法、装置、及びウェブ基材上に形成された多層組織の薄膜

Inventor： マイケル・ベリー・ヒンツ ,  ジョゼフ・ホームズ・セクストン ,  ウィリアム・コビー・ミッチェル ,  ジョン・ワード・ウルセス
Applicant, Patent owner： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993140438
Publication number (International publication number)：1994057415
Application date： Jun. 11, 1993
Publication date： Mar. 01, 1994
Summary：

【要約】【目的】 連続したウェブ基材36に、2以上の蒸発物質を順次繰り返して蒸着して薄膜を形成する。【構成】 基材移送ローラ62により、複数の蒸発源60を通過するように、ウェブ基材36を連続して移送し、基材移送ローラ62によって支持された基材36の方を向くように複数の蒸発源60を位置合わせする。蒸発物質58の蒸着中に、基材移送ローラ62を駆動して、ウェブ基材36を蒸発源60を通過するように連続して移送し、基材36上の各部すべてを蒸発源60からの蒸発物質の流れに順次繰り返してさらす。そして、蒸発源に順次さらす回数を蒸発源の数よりも多くする。

Claim (excerpt)：

ウェブ基材の表面に蒸発物質を順次蒸着する方法であって、a)複数の蒸発源を通過するように基材に連続した動きを伝える基材移送手段を準備するステップと、b)該基材移送手段によって支持された基材の方を向くように複数の蒸発源を位置合わせするステップと、c)蒸発物質の蒸発中に、上記基材移送手段を駆動して上記ウェブ基材を上記蒸発源を通過するように連続移動させるステップであって、該基材の各部がすべて、上記複数の蒸発源からの蒸発物質の流れに順次繰り返してさらされ、かつ蒸発源に順次さらされる回数が蒸発源の数よりも多く設定されたステップとを備える方法。