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J-GLOBAL ID：200903064837015930

磁気記録媒体及びその製造方法

Inventor： 森口 善弘 ,  猪股 洋一 ,  加藤 義善 ,  大浦 正樹 ,  五味 憲一 ,  田中 秀明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992063601
Publication number (International publication number)：1993266465
Application date： Mar. 19, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】【目的】磁気記録媒体の磁性膜上に形成した保護膜の疎水性を高めることにより、耐摩耗性及び耐蝕性を向上する。【構成】 磁性膜2に形成したカーボン等の保護膜3の表面をフッ素化処理してこの膜3の表面にフッ素原子を結合させることにより、フッ素化処理層4を形成すると、保護膜表面が安定化し疎水性が高まる結果、摺動特性(耐摩耗性)や耐蝕性が向上する。フッ素化処理方法としては、保護膜3表面をドライエッチング処理(プラズマ処理、イオンエッチングなど)して表面に活性化部位(高エネルギー状態)を作り、ここにフッ素原子を含むガスを吸着させて活性化部位にフッ素原子を強固に結合させる方法を用いる。

Claim (excerpt)：

磁性膜上に形成した保護膜表面をフッ素化処理したことを特徴とする磁気記録媒体。

IPC (2)：

G11B 5/72 ,  G11B 5/84