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J-GLOBAL ID：200903064860316599

光デイスク基板の冷却装置

Inventor： 三谷 智洋
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 高野 明近 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991301148
Publication number (International publication number)：1993114176
Application date： Oct. 21, 1991
Publication date： May. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】 射出成形直後の光ディスク基板をストックする際における光ディスク基板の変形を少なくし、かつ、変形のばらつきの小さい光ディスク基板冷却装置を提供すること。【構成】 射出成形直後の光ディスク基板2をストックするストッカー1に強制的にエアーを当てて、該光ディスク基板を冷却する。この光ディスク基板2のストック位置に当たるエアーの風量を、除電クリーンエアー送風機5からのブローと、排気コントローラ6,排気弁7によって排気されるサクションのバランスを制御して一定化させる。

Claim (excerpt)：

射出成形直後の光ディスク基板のストック位置に強制的にエアーを当てて前記光ディスク基板を冷却する光ディスク基板の製造装置において、前記光ディスク基板のストック位置に当たるエアーの風量を、ブローとサクションのバランスを制御して一定化させることを特徴とする光ディスク基板の冷却装置。

IPC (3)：

G11B 7/26 521 ,  B29C 45/17 ,  B29L 17:00