Pat

J-GLOBAL ID：200903064869013661

ネガ型放射線感応性レジスト組成物

Inventor： 小林 政一 ,  山崎 浩幸 ,  原田 庸一郎 ,  田中 初幸 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993282824
Publication number (International publication number)：1995134412
Application date： Nov. 11, 1993
Publication date： May. 23, 1995
Summary：

【要約】【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂とアルコキシメチル化アミノ樹脂から成る樹脂成分に対し、(B)下記一般式(I)で表わされるトリアジン化合物、又はこのものと下記一般式(II)で表わされるトリアジン化合物とを組み合わせたものを配合して成るネガ型放射線感応性レジスト組成物である。【化1】[R1、R2は炭素数1〜3のアルキル基、Zは4-アルコキシフェニル基、4-アルコキシナフチル基、2-(3,5-ジアルコキシフェニル)エテニル基、2-(2-フリル)エテニル基、2-(5-アルキル-2-フリル)エテニル基、3,4-メチレンジオキシフェニル基又は2-(3,4-メチレンジオキシフェニル)エテニル基]【効果】 高い解像性及び高い感度を有し、かつ良好なプロファイル形状のレジストパターンを与えることができ、半導体デバイスの製造や液晶表示用の透明導電膜の加工などに好適に用いられる。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂とアルコキシメチル化アミノ樹脂から成る樹脂成分に対し、(B)(イ)一般式【化1】(式中のR1及びR2はそれぞれ炭素数1〜3のアルキル基であり、それらはたがいに同一でも異なっていてもよい)で表わされるトリアジン化合物、又は該(イ)成分のトリアジン化合物と(ロ)一般式【化2】[式中のZは4-アルコキシフェニル基、4-アルコキシナフチル基、2-(3,5-ジアルコキシフェニル)エテニル基、2-(2-フリル)エテニル基、2-(5-アルキル-2-フリル)エテニル基、3,4-メチレンジオキシフェニル基又は2-(3,4-メチレンジオキシフェニル)エテニル基である]で表わされるトリアジン化合物とを組み合わせたものを配合したことを特徴とするネガ型放射線感応性レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027