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J-GLOBAL ID：200903064898095146

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 河辺 保雅
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997214904
Publication number (International publication number)：1999052567
Application date： Aug. 08, 1997
Publication date： Feb. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 高い感度、解像力を有し、現像性(現像残渣が発生しない)及びレジスト形状に優れ、得られるレジスト像が耐熱性、特に耐ドライエッチング性に優れるポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 特定のポリヒドロキシ化合物2種とアルデヒド類を縮合させて得られるノボラック樹脂とキノンジアジド化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂と1,2-キノンジアジド化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、該アルカリ可溶性樹脂が、下記一般式〔1〕で表されるフェノール類の少なくとも1種及び下記一般式〔2〕で表される化合物の少なくとも1種を含有する混合物と、アルデヒド類とを縮合させることにより得られるノボラック樹脂を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式〔1〕中、R1 〜R3 は、同一でも異なってもよく、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシアルキル基、アリールカルボニル基又はシクロアルキル基を表す。【化2】式〔2〕中、R4 およびR5 は互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、又は下記の化学式で示される置換基を表す。【化3】R6 およびR7 は互いに同じでも異なってもよく、水素原子又はアルキル基を表す。但し、R6 とR7 が互いに結合して環を形成してもよい。R8 は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、又はアルコキシ基を表わす。m、m’およびnは各々異なっても同じでもよく、1〜3の整数を表わす。

IPC (3)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R