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J-GLOBAL ID：200903064907496094

フォトソルダーレジスト組成物

Inventor： 澤口 壽一
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995126178
Publication number (International publication number)：1996320567
Application date： May. 25, 1995
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【目的】フォト法で画像形成可能でありながら優れた物理的特性を与えられるフォトソルダーレジスト組成物の提供。【構成】エチレン不飽和基を有するシラン化合物と他のエチレン不飽和化合物とを共重合してなる、カルボキシル基およびエチレン不飽和基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂(A)を含むフォトソルダーレジスト組成物。【効果】本発明により、耐薬品性、耐溶剤性、耐水性、耐湿性、耐アルカリ性等が著しく向上し優れた特性を示すフォトソルダーレジスト組成物が得られた。したがって、メッキ工程等で密着性の低下によるトラブルが発生することは無い。また、耐湿試験、煮沸試験、プレッシャークッカーテスト、耐湿負荷試験等の苛酷な耐久性試験でも全く問題は起こらない。さらに、活性の強い水溶性フラックスを用いての溶融半田メッキを行なうことができる。

Claim (excerpt)：

エチレン不飽和基を有するシラン化合物と他のエチレン不飽和化合物とを共重合してなる、カルボキシル基およびエチレン不飽和基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂(A)を含むことを特徴とするフォトソルダーレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/038 501

FI (2)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/038 501