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J-GLOBAL ID：200903064913187737

汚水処理装置

Inventor： 酒谷 孝宏 ,  土田 理 ,  山崎 宏史
Applicant, Patent owner： アムズ株式会社
Agent (1)： 西 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000133473
Publication number (International publication number)：2001310193
Application date： May. 02, 2000
Publication date： Nov. 06, 2001
Summary：

【要約】【課題】 微生物を着床させる担体を用いる汚水処理装置に関し、簡便な方法で濾過担体洗浄時の担体濾過槽の水位を低下させる手段を提供し、更に閉塞し難く安定した分離作用が得られ、メンテナンス時の作業性も良好な担体分離装置を提供する。【解決手段】 濾過担体洗浄時に強制移送により担体濾過槽の上流側に位置する槽の水位を下げ、次いで担体濾過槽内の処理水を上流側の槽に移送して担体濾過槽の水位を低下させ、その後担体濾過槽内の濾過担体の洗浄を行なう。また、担体分離装置の濾過スクリーン面を槽の水面付近の中央部に配置し、そのスクリーン面を槽内の旋回流の水面部分における水流と平行でかつ水平面に対して30度を越えかつ90度未満の角度で設置する。スクリーン面が水面付近中央部に配置されるため、目視確認が行いやすく、ブラシ等による掃除作業が容易である。

Claim (excerpt)：

濾過担体(26)を充填して固液分離を行う担体濾過槽(8)を備え、曝気により定期的に濾過担体(26)を洗浄して捕捉した浮遊物質を除去する洗浄用散気管(14)を備えた汚水処理装置において、処理水の流れの上流側に位置する前槽(6)から下流側に位置する次槽(7)に強制的に処理水を移送する強制移送装置(19)を備え、濾過担体(26)の洗浄前に強制移送装置(19)を運転して前槽の水位を下げ、次に担体濾過槽(8)の水を上流側に位置する槽(5,6,7)に送ることにより担体濾過槽(8)の水位を低下させた後に濾過担体(26)の洗浄を行う、汚水処理装置。

IPC (3)：

C02F 3/00 ,  C02F 3/00 ZAB ,  C02F 3/08

FI (3)：

C02F 3/00 F ,  C02F 3/00 ZAB E ,  C02F 3/08 B

F-Term (18)：

4D003AA12 ,  4D003AB02 ,  4D003BA02 ,  4D003CA02 ,  4D003CA03 ,  4D003CA08 ,  4D003DA09 ,  4D003DA11 ,  4D003EA01 ,  4D003EA28 ,  4D027AA01 ,  4D027AA02 ,  4D027AA12 ,  4D027AA14 ,  4D027AB06 ,  4D027AB07 ,  4D027AB12 ,  4D027AB14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 汚水浄化槽
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-302214   Applicant：日立化成工業株式会社
• 浄化槽及びその運転方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-138505   Applicant：株式会社クボタ