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J-GLOBAL ID：200903064916209928

X線発生装置

Inventor：
塚本 勝美

About 塚本 勝美


Applicant, Patent owner：
株式会社リガク

About 株式会社リガク


Agent (1)： 鈴木 利之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004103311
Publication number (International publication number)：2005293884
Application date： Mar. 31, 2004
Publication date： Oct. 20, 2005
Summary：
【課題】結像確認用ターゲットを用いることにより,2段式の電子レンズを備えていても,焦点サイズを容易に変更可能にする。【解決手段】電子ビーム12は第1の電子レンズ14により第1の結像点16に結像され,そこを通過した電子ビームは第2の電子レンズ18により主ターゲット20上に結像される。第1の結像点16の位置に結像確認用ターゲット28を配置できる。結像確認用ターゲット28に電子ビームが当たると,そこからX線が発生し,これを蛍光塗料を塗布した観察窓で観察する。この観察をしながら,第1の電子レンズ14の励磁電流を調整する。結像確認用ターゲット28は,電子ビーム12の経路上の挿入位置と,電子ビーム12の経路から外れた退避位置との間で切り換え可能である。結像確認用ターゲット28と観察窓は,電子ビーム12に沿った方向(矢印64の方向)に移動可能である。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
次の構成を備えるX線発生装置。 (ア)電子ビームを発生する電子ビーム発生源。 (イ)前記電子ビームを第1の結像点に結像させるための第1の電子レンズ。 (ウ)前記第1の結像点を通過した電子ビームを第2の結像点に結像させるための第2の電子レンズ。 (エ)前記第1の結像点の位置に選択的に配置可能で,電子ビームの照射を受けて結像確認用のX線を発生する結像確認用ターゲット。 (オ)前記結像確認用ターゲットから発生したX線を観察するための観察装置。 (カ)前記第2の結像点の位置に配置されて,電子ビームの照射を受けて主X線を発生する主ターゲット。
IPC (6)：
H05G1/00 ,  G21K1/00 ,  G21K5/02 ,  G21K5/08 ,  H01J35/08 ,  H01J35/14
FI (6)：
H05G1/00 E ,  G21K1/00 A ,  G21K5/02 X ,  G21K5/08 X ,  H01J35/08 Z ,  H01J35/14
F-Term (4)：
4C092AA01 ,  4C092AB11 ,  4C092BD05 ,  4C092DD01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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