Pat
J-GLOBAL ID：200903064950903973
薄膜材料およびその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2003005819
Publication number (International publication number)：WO2003095193
Application date： May. 09, 2003
Publication date： Nov. 20, 2003
Summary：
汎用性があり、精密かつ構造設計が可能で簡便に製造することができ、高強度で自己支持性を有する簿膜材料が、表面に水酸基またはカルボキシル基を提示する高分子の薄膜層と、該水酸基またはカルボキシル基を利用して高分子の薄膜層と配位結合または共有結合している金属酸化物薄膜層または有機/金属酸化物複合薄膜層から構成され、全体の厚みが300nm以下である薄膜材料により提供される。
Claim (excerpt)：
表面に水酸基またはカルボキシル基を提示する高分子の薄膜層と、該水酸基またはカルボキシル基を利用して高分子の薄膜層と配位結合または共有結合している金属酸化物薄膜層または有機/金属酸化物複合薄膜層から構成され、全体の厚みが300nm以下である薄膜材料。
IPC (2)：
FI (2)：
Return to Previous Page
