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J-GLOBAL ID：200903064951976575

粉体のプラズマ処理方法およびその処理装置

Inventor： 富内 芳昌 ,  榊原 康史
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 篠部 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001207707
Publication number (International publication number)：2003019434
Application date： Jul. 09, 2001
Publication date： Jan. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】放射性廃棄物等の粒状あるいは粉末状の物質をプラズマガスと効率よく反応させて処理する方法を得る。【解決手段】被処理粉体をサイクロン2に導入し、高速にラセン運動させてプラズマ処理手段1へと送り、処理ガスの活性化プラズマ10と化学反応させて処理する。プラズマ処理手段1の排ガスは粉末除去用サイクロン31を経たのち排気手段4、排ガス無害化処理手段へと送る。また、プラズマ処理手段1に蓄積した残さは、処理運転終了後に取り出す。

Claim (excerpt)：

粒状あるいは粉末状の被処理物質よりなる粉体をサイクロンによりラセン状に運動させてプラズマ処理容器に供給し、前記サイクロン、あるいは前記プラズマ処理容器のガス導入口より導入された処理ガスの活性化プラズマと化学反応させて処理することを特徴とする粉体のプラズマ処理方法。

IPC (9)：

B01J 19/08 ZAB ,  A62D 3/00 ,  B09B 3/00 ,  B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/509 ,  G21F 9/32 ,  H05H 1/30

FI (10)：

B01J 19/08 ZAB K ,  A62D 3/00 ,  C23C 14/34 S ,  C23C 16/509 ,  G21F 9/32 B ,  G21F 9/32 F ,  H05H 1/30 ,  B09B 3/00 304 K ,  B09B 3/00 304 L ,  B09B 3/00 304 Z

F-Term (38)：

2E191BA12 ,  2E191BA13 ,  2E191BB01 ,  2E191BD18 ,  4D004AA16 ,  4D004AA41 ,  4D004AA47 ,  4D004AA50 ,  4D004AB06 ,  4D004AB07 ,  4D004CA34 ,  4D004CB04 ,  4D004CB31 ,  4D004CB42 ,  4G075AA42 ,  4G075BA05 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EA01 ,  4G075EA06 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075FB02 ,  4G075FC15 ,  4K029AA01 ,  4K029BD00 ,  4K029BD01 ,  4K029CA05 ,  4K029EA06 ,  4K029EA09 ,  4K029JA01 ,  4K030CA01 ,  4K030FA03 ,  4K030GA02 ,  4K030JA14 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 超微粒子の製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-308174   Applicant：日清製粉株式会社, 梅屋薫
• 特開昭61-004789