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J-GLOBAL ID：200903064974439097

分離膜および分離膜の製造方法

Inventor：
都留 稔了

About 都留 稔了

, 
金指 正言

About 金指 正言

, 
矢田 和也

About 矢田 和也


Applicant, Patent owner：
国立大学法人広島大学

About 国立大学法人広島大学


Agent (2)： 前田 健一 ,  酒井 善典
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008081276
Publication number (International publication number)：2009233540
Application date： Mar. 26, 2008
Publication date： Oct. 15, 2009
Summary：
【課題】高精度に細孔径を制御された分離層を有する分離膜、および当該分離膜を高水準の再現性で作製可能な製造方法を提供する。【解決手段】分離膜は、支持体、および、コロイドゾルまたはポリマーゾルを焼成して得られるコロイドゲルまたはポリマーゲルにより形成された分離層を有するものであり、分離層を形成するコロイドゲルまたはポリマーゲルのゲル空間の大きさを調節することにより、分離層の細孔径を制御する。コロイドゲルまたはポリマーゲルとして、ゲル空間の大きさを調節可能な構造を有する有機ケイ素化合物の重合体、または、Si-O結合を含む環状シロキサン構造を有する重合体を含有するものを使用する。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
支持体、および、コロイドゾルまたはポリマーゾルを焼成して得られるコロイドゲルまたはポリマーゲルにより形成された分離層を有する分離膜であって、 前記コロイドゲルまたはポリマーゲルのゲル空間の大きさを調節することにより、前記分離層の細孔径を制御することを特徴とする分離膜。
IPC (4)：
B01D 71/02 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/70 ,  C01B 39/04
FI (4)：
B01D71/02 ,  B01D69/12 ,  B01D71/70 ,  C01B39/04
F-Term (39)：
4D006GA01 ,  4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA21 ,  4D006MB15 ,  4D006MC01 ,  4D006MC65X ,  4D006MC90 ,  4D006NA39 ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006PA01 ,  4D006PB25 ,  4D006PB32 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PB68 ,  4G073AA02 ,  4G073BA81 ,  4G073BB04 ,  4G073BB40 ,  4G073BB57 ,  4G073BB59 ,  4G073BD06 ,  4G073BD12 ,  4G073BD18 ,  4G073FB01 ,  4G073FB41 ,  4G073FC14 ,  4G073FC22 ,  4G073FC24 ,  4G073FC25 ,  4G073FC27 ,  4G073UA06 ,  4G073UB40
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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