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J-GLOBAL ID:200903064976480230

被覆部材の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998121142
Publication number (International publication number):1999310868
Application date: Apr. 30, 1998
Publication date: Nov. 09, 1999
Summary:
【要約】【課題】基材と被覆膜との密着性が高くかつ表面が平滑な被覆膜をもつ部材の製造方法を提供する。【解決手段】この被覆部材の製造方法は、基材の被覆すべき表面に予め周期律表の第4属〜第6属に属する元素の少なくとも1種を有する窒化物層、炭化物層または炭窒化物層である中間層を形成する第1工程と、該中間層の表面にアルゴン、ヘリウム及び水素の一種類以上を含む凹凸形成ガスを用いてイオン衝撃し、平均高さが10〜100nmの範囲、平均の幅が10〜300nmの範囲にある凸部を形成して凹凸面とする第2工程と、該凹凸面上に被覆膜を形成する第3工程と、よりなる。中間層によりイオン衝撃による凹凸の形成が一層安定し容易となる。このため被覆膜の剥離強度が高くなる。
Claim (excerpt):
基材の被覆すべき表面に予め周期律表の第4属〜第6属に属する元素の少なくとも1種を有する窒化物層、炭化物層または炭窒化物層を形成する第1工程と、該窒化物層、炭化物層または炭窒化物層の表面に希ガスに属するガス及び水素の一種類以上を含む凹凸形成ガスを用いてイオン衝撃し、平均高さが10〜100nmの範囲、平均の幅が10〜300nmの範囲にある凸部を形成して凹凸面とする第2工程と、該凹凸面上に被覆膜を形成する第3工程と、よりなることを特徴とする被覆部材の製造方法。
IPC (4):
C23C 14/06 ,  C23C 14/58 ,  C23C 30/00 ,  C23F 4/00
FI (5):
C23C 14/06 H ,  C23C 14/58 Z ,  C23C 30/00 B ,  C23C 30/00 C ,  C23F 4/00 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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