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J-GLOBAL ID:200903064984200190

脱硝方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 塩出 真一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996195472
Publication number (International publication number):1998015355
Application date: Jul. 05, 1996
Publication date: Jan. 20, 1998
Summary:
【要約】【課題】 炭化水素、アルコール等を還元剤として燃焼排ガス中の窒素酸化物を除去する際に、排ガス上流側の脱硝触媒層を用いた還元剤による脱硝反応で熱が発生し、排ガスの温度が上昇しても、排ガス温度が下流側の脱硝触媒層の活性温度域から逸脱しないようにして、高い脱硝率が得られるようにする。【解決手段】 活性温度域が異なる少なくとも2種類の脱硝触媒の触媒層として触媒Aからなる触媒層10a、触媒Bからなる触媒層10bを用い、炭化水素及びアルコールの少なくとも1種を還元剤として、燃焼排ガス中の窒素酸化物を除去する装置であって、脱硝触媒層10の排ガスが流入する上流側に低温域で活性が高い触媒Aを配置するとともに、脱硝触媒層10の下流側に高温域で活性が高い触媒Bを直列に配置してなり、かつ、触媒Aからなる触媒層10a、触媒Bからなる触媒層10bの排ガス流入側にそれぞれ還元剤注入手段12、14を設けてなる構成とする。
Claim (excerpt):
活性温度域が異なる少なくとも2種類の脱硝触媒の触媒層を用い、炭化水素及びアルコールの少なくとも1種からなる還元剤をそれぞれの触媒層の排ガス流入側から各触媒層に注入して、燃焼排ガス中の窒素酸化物を除去する方法であって、前記触媒層を活性温度域が低い触媒から順に排ガス上流側より直列に配置し、上流側に配置された低温域で活性が高い触媒を用いて一酸化窒素及び二酸化窒素を除去し、ついで、より下流側に配置されたより高温域で活性が高い触媒を用いて一酸化窒素及び二酸化窒素をさらに除去することを特徴とする脱硝方法。
IPC (10):
B01D 53/94 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 23/06 ,  B01J 23/08 ,  B01J 23/16 ,  B01J 23/38 ,  B01J 23/70 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/28
FI (12):
B01D 53/36 102 A ,  B01J 23/06 A ,  B01J 23/08 A ,  B01J 23/16 A ,  B01J 23/38 A ,  B01J 23/70 A ,  F01N 3/10 A ,  F01N 3/28 J ,  B01D 53/34 129 B ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 102 C ,  B01D 53/36 102 H

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