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J-GLOBAL ID：200903065010514010

ELラミネート誘電層構造体および該誘電層構造体生成方法ならびにレーザパターン描画方法およびディスプレイパネル

Inventor： シンウェイ ウー ,  ジェイムズ アレクサンダー ロバート スタイルズ ,  ケン コック フー ,  フィリップ ベイリー
Applicant, Patent owner： ウェステイム テクノロジーズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993327981
Publication number (International publication number)：1995050197
Application date： Dec. 24, 1993
Publication date： Feb. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 エレクトロルミネセンスラミネートの誘電層を改善する。【構成】 誘電層は厚膜層としてセラミック材料から生成される。この場合、約1.0×106 V/mの絶縁耐力と、誘電材料の誘電率と燐光層の誘電率との比が約50:1よりも大きくなるような誘電率を有する。また、誘電層の厚さと燐光層の厚さの比が約20:1〜500:1の範囲内になるような厚さを有する。さらに、燐光層と両立性があり、この燐光層が所定の励起電圧で全体的に均一に発光するのに十分に滑らかである、燐光層と隣接する表面を有する。

Claim (excerpt)：

前面電極と背面電極との間に挟まれた燐光層を有し、前記背面電極は基板上に形成されており、前記燐光層は誘電層により背面電極から分離されている形式の、ELラミネート誘電層構造体において、セラミック材料により生成された平坦な層を有しており、該層は、約1.0×106 V/mよりも大きい絶縁耐力と誘電材料の誘電率と燐光体の誘電率の比が50:1よりも大きくなるような誘電率を有しており、前記誘電層は、当該誘電層の厚さと前記燐光層の厚さの比が約20:1〜500:1の範囲内になるような厚さを有し、該誘電層は、前記燐光層と両立性があり該燐光層が所定の励起電圧で全体的に均一に発光するのに十分に滑らかである、前記燐光層に隣接する平面を有することを特徴とする、ELラミネート誘電層構造体。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭61-230296
  
• 特開昭64-063297
  
• 特開平4-075295
  
• 特開平2-132791
  
• 特開昭63-174297