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J-GLOBAL ID：200903065051881540

低級炭化水素から芳香族炭化水素と水素を製造する方法

Inventor：
張 戦国

About 張 戦国

, 
本田 一規

About 本田 一規

, 
吉田 忠

About 吉田 忠


Applicant, Patent owner：
独立行政法人産業技術総合研究所

About 独立行政法人産業技術総合研究所


Agent (1)： 池浦 敏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001212374
Publication number (International publication number)：2003026613
Application date： Jul. 12, 2001
Publication date： Jan. 29, 2003
Summary：
【要約】【課題】 メタン等の低級炭化水素からベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素と水素を同時に且つ触媒活性の低下を招くことなく製造する方法を提供する。【解決手段】 触媒の存在下で、メタンを少なくとも60モル%含有する低級炭化水素からベンゼン及びナフタレンを主成分とする芳香族炭化水素と水素を同時に製造する際に、原料の低級炭化水素と、触媒の活性維持又は活性が低下した触媒を再生するための水素含有ガスまたは水素ガスをそれぞれ周期的に且つ交互に触媒と接触させることを特徴とする低級炭化水素からの芳香族炭化水素と水素の製造方法。
Claim (excerpt)：
触媒の存在下で、メタンを少なくとも60モル%含有する低級炭化水素から芳香族炭化水素と水素を製造する方法であって、該低級炭化水素と、触媒の活性維持又は活性が低下した触媒を再生するための水素含有ガスまたは水素ガスとを、それぞれ周期的に且つ交互に触媒と接触させることを特徴とする芳香族炭化水素と水素の製造方法。
IPC (8)：
C07C 2/84 ,  B01J 29/90 ,  B01J 37/18 ,  B01J 38/10 ,  C01B 3/26 ,  C07C 15/04 ,  C07C 15/24 ,  C07B 61/00 300
FI (8)：
C07C 2/84 ,  B01J 29/90 M ,  B01J 37/18 ,  B01J 38/10 B ,  C01B 3/26 ,  C07C 15/04 ,  C07C 15/24 ,  C07B 61/00 300
F-Term (27)：
4G040DA03 ,  4G040DB01 ,  4G069AA10 ,  4G069BA07B ,  4G069BC59B ,  4G069CB35 ,  4G069DA05 ,  4G069FA08 ,  4G069FB44 ,  4G069FB77 ,  4G069FC08 ,  4G069GA05 ,  4G069ZA11B ,  4H006AA02 ,  4H006AB84 ,  4H006AC28 ,  4H006BA14 ,  4H006BA55 ,  4H006BA71 ,  4H006BA84 ,  4H006BD10 ,  4H006BD21 ,  4H006BD31 ,  4H006BD52 ,  4H006DA12 ,  4H039CA41 ,  4H039CH10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (7)
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