光発生装置及び露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤元亮輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004042142
Publication number (International publication number)：2005235959
Application date： Feb. 18, 2004
Publication date： Sep. 02, 2005
Summary：

【課題】良好なデブリ除去を実現し、安定してEUV光を発生させることができる光発生装置及び露光装置を提供する。【解決手段】標的部材にレーザーを照射してプラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を取り出す光発生装置であって、前記レーザーを前記標的部材に導光する第1の光学系と、前記光を導光する第2の光学系と、前記プラズマを生成するための前記レーザーの集光条件を変化させると共に、当該レーザーを前記第1の光学系及び/又は前記第2の光学系に付着したデブリに照射する手段とを有することを特徴とする光発生装置を提供する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

標的部材にレーザーを照射してプラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を取り出す光発生装置であって、前記レーザーを前記標的部材に導光する第1の光学系と、前記光を導光する第2の光学系と、前記プラズマを生成するための前記レーザーの集光条件を変化させると共に、当該レーザーを前記第1の光学系及び/又は前記第2の光学系に付着したデブリに照射する手段とを有することを特徴とする光発生装置。

IPC (6)：

H01L21/027 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/08 , H05G2/00 , H05H1/24

FI (8)：

H01L21/30 531S , G21K5/00 A , G21K5/02 X , G21K5/08 X , G21K5/08 Z , H05H1/24 , H01L21/30 503G , H05G1/00 K

F-Term (10)：

4C092AA06 , 4C092AA14 , 4C092AA15 , 4C092AA17 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 4C092BD20 , 5F046AA28 , 5F046GC03 , 5F046GC05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

レーザプラズマ極紫外光源及びレーザプラズマ極紫外光線の発生方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-252453 Applicant：ティーアールダブリュー・インコーポレーテッド

Cited by examiner (4)

X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-059644 Applicant：株式会社ニコン
レーザー励起型X線源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-105642 Applicant：工業技術院長, 株式会社島津製作所
レーザー誘起X線源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-382121 Applicant：株式会社島津製作所, 学校法人東海大学

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