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J-GLOBAL ID：200903065115751603

研磨剤組成物及びそれを用いる研磨方法

Inventor： 小林 正恒 ,  武政 康二
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 吉田 勝広 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993204478
Publication number (International publication number)：1995041754
Application date： Jul. 28, 1993
Publication date： Feb. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 研磨効率が高く、優れた研磨表面を形成することが出来る研磨剤組成物及び該研磨剤組成物を用いる研磨方法を提供すること。【構成】 少なくとも研磨剤とその分散媒体とからなり、該分散媒体が電解水を含有することを特徴とする研磨剤組成物、及び該研磨剤組成物を用いることを特徴とする研磨方法。

Claim (excerpt)：

少なくとも研磨剤とその分散媒体とからなり、該分散媒体が電解水を含有することを特徴とする研磨剤組成物。

IPC (3)：

C09K 3/14 510 ,  B24B 37/00 ,  B24C 11/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭60-108260
  
• 特開昭60-108260