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J-GLOBAL ID：200903065125262597

ガス溶存装置及びガス溶存方法

Inventor： 石川 陽一
Applicant, Patent owner： エイブル株式会社
Agent (1)： 的場 基憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998193626
Publication number (International publication number)：2000005583
Application date： Jun. 25, 1998
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 ポンプが不要で、且つ駆動音や振動を抑制したガス溶存装置及びガス溶存方法を提供すること。【解決手段】 ガス溶存装置は、ハウジング10と、このハウジング10内に設置された回転翼20と、回転翼20が取り付けられている中空の回転軸30とを備え、この中空回転軸30はモータ40に連結されている。ハウジング10は、筒部13を備えたほぼ円筒形をなし、底面には液体導入口12が穿設され、その側壁には気液放出口14が穿設されている。

Claim (excerpt)：

液体中にガスを溶存させる装置であって、上記液体に浸漬され且つ上記ガスと連通したハウジングと、このハウジング内を減圧する回転起流体とを備え、上記ハウジングが、上記液体を導入する液体導入口と、上記ガス及び上記液体を放出する気液放出口とを有し、この気液放出口が上記回転起流体による流れに抗する位置に穿設されていることを特徴とするガス溶存装置。

IPC (4)：

B01F 1/00 ,  A01K 63/04 ,  B01F 3/04 ,  C02F 3/16

FI (4)：

B01F 1/00 A ,  A01K 63/04 A ,  B01F 3/04 C ,  C02F 3/16

F-Term (10)：

2B104EB14 ,  2B104EB18 ,  2B104EB26 ,  4D029AA01 ,  4D029AB02 ,  4D029BB13 ,  4G035AA01 ,  4G035AB19 ,  4G035AB54 ,  4G035AE19