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J-GLOBAL ID：200903065125960944

半導体基板の洗浄液

Inventor： 杉原 康夫 ,  田中 一成 ,  佐久間 郁江
Applicant, Patent owner： 三菱瓦斯化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992052580
Publication number (International publication number)：1993259140
Application date： Mar. 11, 1992
Publication date： Oct. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】 半導体基板を過酸化水素系洗浄液で洗浄する際の金属不純物の基板表面への付着を防止する。【構成】 酸性もしくは塩基性の過酸化水素水溶液からなる洗浄液にホスホン酸系キレート剤と界面活性剤を添加する。【効果】 洗浄液が金属不純物により汚染されても、基板表面への付着が抑制されるので、基板より作製した半導体素子の素子特性が安定化する。

Claim (excerpt)：

酸性もしくは塩基性の過酸化水素洗浄液に対し、ホスホン酸系キレート剤と界面活性剤を添加することを特徴とする半導体基板洗浄液。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-053083
  
• 表面処理方法及び処理剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-032633   Applicant：和光純薬工業株式会社, 株式会社ピュアレックス
• 特開平3-070800
  
• 特開平2-240285