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J-GLOBAL ID：200903065127209014

抗菌・脱臭体

Inventor： 山口 靖英 ,  山崎 正敏
Applicant, Patent owner： 三井金属鉱業株式会社
Agent (1)： 山下 穣平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995034965
Publication number (International publication number)：1996224289
Application date： Feb. 23, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】【構成】 基体と、該基体上に電解酸化法によって形成された酸化亜鉛からなる皮膜層と、該皮膜層の表面に形成された無機高分子又はフッ素樹脂を含む通気性、光透過性の表面保護層とを有する抗菌・脱臭体。【効果】 本発明の抗菌・脱臭体は悪臭ガス、細菌を光触媒効果、あるいは酸化亜鉛の効果で分解でき、且つ耐剥離性、耐摩耗性に優れており、粉落ちせず、湿気にも安定である。

Claim (excerpt)：

基体と、該基体上に電解酸化法によって形成された酸化亜鉛からなる皮膜層と、該皮膜層の表面に形成された無機高分子又はフッ素樹脂を含む通気性、光透過性の表面保護層とを有することを特徴とする抗菌・脱臭体。

IPC (2)：

A61L 9/01 ,  C25D 11/34 303

FI (2)：

A61L 9/01 E ,  C25D 11/34 303