Pat
J-GLOBAL ID:200903065135351520
画像分類方法及び画像分類装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
平木 祐輔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006019378
Publication number (International publication number):2007198968
Application date: Jan. 27, 2006
Publication date: Aug. 09, 2007
Summary:
【課題】ADCで用いられる最適な画像処理パラメータを決定するために要する調整者の労力の低減をはかる。【解決手段】調整者は、画像処理パラメータ設定画面100の画面上でADCの分類シーケンスに利用したい複数の画像処理パラメータとその調整値範囲を選択設定するだけで、欠陥分類装置10側で、選択設定した複数の画像処理パラメータ111〜113の調整値の全組み合わせに対して画像処理を実行し、その分類処理結果に基づいて、最適な組み合わせパターンを推奨パラメータとして、調整者に提案する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
試料を撮像して検出した欠陥群の画像に、欠陥属性を表す分類クラスを登録する分類クラス登録ステップ、
欠陥群の画像を自動分類処理する際に利用したい画像処理パラメータの種別全部とその調整値範囲を設定する画像処理パラメータ設定ステップ、
前記分類クラス登録ステップで分類クラスを登録した欠陥群の画像について、該画像処理パラメータ設定ステップで設定された種別の画像処理パラメータとその調整値範囲をもとに得た画像処理パラメータ設定値群を用いて、画像処理及び欠陥の分類処理を実行し、当該画像処理結果及び欠陥の分類処理結果を蓄積する処理実行ステップ、
該処理実行ステップで取得された欠陥の分類処理結果を画像処理パラメータ設定値群別に、前記分類クラス登録ステップで登録した欠陥群の対応画像の分類クラスと照合し、当該照合結果に基づいて、最適パラメータとして一の画像処理パラメータ設定値群の画像処理パラメータ設定値を決定する最適パラメータ決定ステップ、
を有することを特徴とする画像分類方法。
IPC (3):
G01N 23/225
, H01L 21/66
, G06T 1/00
FI (4):
G01N23/225
, H01L21/66 Z
, G06T1/00 305A
, H01L21/66 J
F-Term (28):
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001BA15
, 2G001BA30
, 2G001CA03
, 2G001FA01
, 2G001FA06
, 2G001GA06
, 2G001HA07
, 2G001JA13
, 2G001JA16
, 2G001KA03
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G001PA07
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106CA39
, 4M106DB21
, 4M106DJ20
, 4M106DJ28
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DC36
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
欠陥分類方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-066542
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
欠陥分類方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-152663
Applicant:株式会社日立製作所
-
画像自動分類方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-065151
Applicant:株式会社日立製作所
-
ハイブリッドで一様に適用可能な自動欠陥分類法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-219833
Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
-
画像自動分類方法及び画像自動分類装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-372886
Applicant:株式会社日立製作所
-
欠陥種別判定装置及びプロセス管理システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-157424
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
Show all
Cited by examiner (3)
-
欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-232704
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
パターン検査方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-028404
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
-
欠陥分類方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-066542
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
Return to Previous Page