遠紫外線感受性フォトレジスト

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宇井正一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993035996
Publication number (International publication number)：1994011829
Application date： Feb. 25, 1993
Publication date： Jan. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】レジストの露光と後露光焼付けの間の長く保たれた時間の間に改良されたCD安定性を示すポジティブワーキング遠紫外線感受性レジストを提供する。【構成】水に不溶性であるが通常水性アルカリ性媒体に可溶であるポリマー、化学線に露光されると酸を発生する光開始剤、及び前記アルカリ性媒体中の通常可溶性のポリマーの溶解を防ぐ酸不安定な化合物である多価フェノールと3級ブチルアルコールの混合炭酸エステルを含むポジティブワーキングフォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

水に不溶性であるが通常水性アルカリ性媒体に可溶であるポリマー、化学線に露光されると酸を発生する光開始剤、及び前記アルカリ性媒体中の通常可溶性のポリマーの溶解を防ぐ酸不安定な化合物である多価フェノールと3級ブチルアルコールの混合炭酸エステルを含むポジティブワーキングフォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

特開昭63-027829
特開昭63-250642
特開昭64-035433

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