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J-GLOBAL ID：200903065151058922

オルガノポリシロキサン及びその製造方法

Inventor： 木下 博文 ,  山口 浩一 ,  小林 延幸 ,  石田 浩一
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994196052
Publication number (International publication number)：1995090084
Application date： Jul. 28, 1994
Publication date： Apr. 04, 1995
Summary：

【要約】【構成】 一般式:【化1】〔式中、R1 は一価の炭化水素基であり、R2 は二価の有機基であり、Rfはパーフルオロアルキルエーテル基又はパーフルオロアルキル基であり、Xは水素原子又はオルガノシリル基であり、nは15〜4000の整数である〕で表される、分子量3000以下の環状ポリシロキサンの含有量が50ppm以下である直鎖状オルガノポリシロキサン。【効果】 このオルガノポリシロキサンは、分子量3000以下の環状シロキサンを50ppm以下しか含有していない点で新規であり、電気・電子材料、建築材料として使用した際に成分の揮発による接点不良、ブリ-ドによる周囲の汚染等を避けることができる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1):【化1】〔式中、R1 は炭素原子数1〜10の非置換又は置換の一価炭化水素基であり、R2 は二価の有機基であり、Rfは下記一般式(2):【化2】(式中、R3 は-CF(CF3 )-、-CF2 CF2 -又は-CF(CF3 )CF2 -であり、Lは0又は1であり、mは1〜5の整数である)で表されるパーフルオロアルキルエーテル基又は下記一般式(3):Ca F2a+1- (3)(式中、aは1〜20の整数である)で表されるパーフルオロアルキル基であり、Xは同一でも異なってもよく、水素原子又は下記一般式(4):(R4 )3 Si- (4)(式中、R4 は水素原子又は前記のR1 と同様の基である)で表されるオルガノシリル基であり、nは15〜4000の整数である〕で表される直鎖状オルガノポリシロキサンのみから実質的になり、分子量3000以下の環状ポリシロキサンの含有量が50ppm以下であるオルガノポリシロキサン。

IPC (2)：

C08G 77/24 NUH ,  C08G 77/06 NUB