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J-GLOBAL ID：200903065151415768

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 水谷 一良 ,  安波 昭一郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999275335
Publication number (International publication number)：2001100418
Application date： Sep. 28, 1999
Publication date： Apr. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】高感度であり、0.2μm以下の高解像力を有し、矩形形状を有するフォトレジストを与え、しかも二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】少なくとも式(I)で示される構造単位(Lは単結合又はアリーレン基を表し、Aは芳香環又は脂環構造を表し、nは1〜6の整数を表す)を共重合成分として含有するポリシロキサンを含有するポジ型フォトレジスト組成物。【化1】

Claim (excerpt)：

少なくとも下記一般式(I)で示される構造単位を共重合成分として含有するポリシロキサンを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)中、Lは単結合又はアリーレン基を表す。Aは芳香環又は脂環構造を表し、それぞれ置換基を有していてもよい。nは1〜6の整数を表す。

IPC (2)：

G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (23)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB17 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025FA17