水素製造用圧力変動吸着装置の吸着塔

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000118824
Publication number (International publication number)：2001300244
Application date： Apr. 20, 2000
Publication date： Oct. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】ゼオライトの充填量を削減でき、従って、吸着塔の高さを低くできると共にその容量も小さくすることができ、吸着剤を再生するために用いられる高純度水素の使用量を低減して高純度水素回収率を向上させることができる水素製造用圧力変動吸着装置の吸着塔を提供する。【解決手段】水素含有ガスから不純物ガスを吸着除去して高純度に精製された水素を製造する圧力変動吸着装置において、圧力変動吸着装置の吸着塔内に、活性炭層、一酸化炭素吸着剤層及びゼオライト層を積層した吸着剤床を設けたことを特徴とする水素製造用圧力変動吸着装置の吸着塔。。

Claim (excerpt)：

水素含有ガスから不純物ガスを吸着除去して高純度に精製された水素を製造する圧力変動吸着装置において、圧力変動吸着装置の吸着塔内に、活性炭層、一酸化炭素吸着剤層及びゼオライト層を積層した吸着剤床を設けたことを特徴とする水素製造用圧力変動吸着装置の吸着塔。

IPC (3)：

B01D 53/02 , B01D 53/04 , C01B 3/56

FI (3)：

B01D 53/02 Z , B01D 53/04 B , C01B 3/56 Z

F-Term (20)：

4D012BA02 , 4D012BA03 , 4D012CA07 , 4D012CB16 , 4D012CD07 , 4D012CG01 , 4D012CG03 , 4D012CJ01 , 4D012CJ02 , 4D012CJ06 , 4G040FA06 , 4G040FB04 , 4G040FB05 , 4G040FB09 , 4G040FC03 , 4G040FD01 , 4G040FD02 , 4G040FD03 , 4G040FD07 , 4G040FE01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ガス発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-183487 Applicant：日本パイオニクス株式会社
PSA法による製品水素ガスの品質制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-185775 Applicant：新日本製鐵株式会社
特開平4-200713

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