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J-GLOBAL ID：200903065168657617

薄膜磁気記録媒体及びその製造方法と記憶装置

Inventor： 千葉 克義 ,  城石 芳博 ,  細江 譲 ,  石川 晃 ,  杉野 建三
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993168861
Publication number (International publication number)：1995029142
Application date： Jul. 08, 1993
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】900Mb/in2 程度以上の高密度記録が可能な薄膜磁気記録媒体及び装置または半導体プロセス及び部品及び処理方法またはメモリを提供する。【構成】真空中で基板3上に直接または下地層を介して磁性薄膜を形成する場合に、下地層および磁性薄膜の少なくとも一方を形成する際に、音波望ましくは超音波の波動駆動体4a,4bから縦波,横波,干渉波の波動エネルギと光、望ましくはレーザとを相互作用させ、さらに物理蒸発中雰囲気を介して基板に印加して粒子の高配向化高分散化を行わせる。

Claim (excerpt)：

非磁性の基板上に、直接もしくは少なくとも一層の中間層を介して形成された少なくとも一層の磁性層を含む薄膜磁気記録媒体において、媒体表面の中心線平均面粗さが3nm以下0.2nm 以上であり、周方向の特性ばらつきが7%以下であることを特徴とする薄膜磁気記録媒体。

IPC (3)：

G11B 5/66 ,  G11B 5/02 ,  G11B 5/85