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J-GLOBAL ID：200903065168843097

ダイヤモンド薄膜の気相合成法

Inventor： 野田 三喜男
Applicant, Patent owner： 岩谷産業株式会社 ,  イワタニプランテック株式会社
Agent (1)： 北谷 寿一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995168238
Publication number (International publication number)：1996337497
Application date： Jun. 09, 1995
Publication date： Dec. 24, 1996
Summary：

【要約】【目的】 基板の前処理を省き、原料ガスの分解率が高く、高品質なダイヤモンド膜を効率的に作成できる実用的なダイヤモンド薄膜の作成方法を提供する。【構成】 平行平板電極を使用した直流プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の作成において、放電電極にプラズマ発生のための印加電力を間歇的あるいはパルス状に供給し、電力供給回路に介装した整流装置と並列にコンデンサを挿入することによって、電極間での放電の立ち上がり時に瞬時的な高いピークを持った尖頭電流を発生させるようにする。

Claim (excerpt)：

平行平板電極を使用した直流プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の作成において、放電電極への電力供給回路を可変変圧器と固定変圧器と整流装置とを直列に接続して形成して放電電極にプラズマ発生のための印加電力を間歇的に供給し、整流装置と並列にコンデンサを挿入することによって、電極間での放電の立ち上がり時に瞬時的な高いピークを持った尖頭電流を発生させるようにしたことを特徴とするダイヤモンド薄膜の気相合成法。

IPC (3)：

C30B 29/04 ,  C23C 16/26 ,  H01L 21/205

FI (3)：

C30B 29/04 C ,  C23C 16/26 ,  H01L 21/205