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J-GLOBAL ID：200903065197223235

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： 戸石 好治 ,  上谷 保則
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003331318
Publication number (International publication number)：2004139063
Application date： Sep. 24, 2003
Publication date： May. 13, 2004
Summary：

【課題】170nm以下の波長の光に対する透過率に優れたレジスト組成物の提供。【解決手段】下式(I)及び(IIa),(IIb)から選ばれる少なくとも1種の酸発生剤、並びに、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

下式(I)

IPC (3)：

G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (3)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (11)：

2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-184546   Applicant：住友化学工業株式会社

Cited by examiner (12)

• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-184546   Applicant：住友化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-048880   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-098796   Applicant：東京応化工業株式会社
• 感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-028944   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-158303   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 感刺激性組成物及び化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-068447   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-292102   Applicant：住友化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-280237   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-173560   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-069030   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 感刺激性組成物及び化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-022318   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 感刺激性組成物及び化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-231536   Applicant：富士写真フイルム株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Synthesis of Novel Fluoropolymer for 157nm Photore