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J-GLOBAL ID：200903065216624734
ガス分離体及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
渡邉 一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993073449
Publication number (International publication number)：1994277472
Application date： Mar. 31, 1993
Publication date： Oct. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 原料ガスが精製ガスに漏洩することがないガス分離体の提供。【構成】 ガス分離能を有する金属が多孔質基体の表面に開いている小孔の内部を充填して閉塞するガス分離体。多孔質基体を、多孔質基体の両片面に圧力差を設けて、活性化金属を含有する溶液に浸漬させる活性化工程と、化学メッキによりガス分離能を有する金属が多孔質基体の表面に開いている小孔の内部を充填して閉塞する化学メッキ工程とを有するガス分離体の製造方法。
Claim (excerpt)：
多孔質基体と、ガス分離能を有する金属とを有するガス分離体であって、当該ガス分離能を有する金属が当該多孔質基体の表面に開いている小孔の内部を充填して閉塞することを特徴とするガス分離体。
IPC (2)：
B01D 71/02 500
, C01B 3/56
