ウエハのマクロ検査方法および自動ウエハマクロ検査装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：大垣孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996300231
Publication number (International publication number)：1998144747
Application date： Nov. 12, 1996
Publication date： May. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】ウエハのマクロ検査を自動的に行う装置。【解決手段】画像検出部10および画像処理部12を具えている。画像検出部10は、拡散照明系14と、この拡散照明系14を用いてウエハ22の表面像(色ムラ像)の検出を行う第1カメラ16と、スポット照明系26と、このスポット照明系26を用いてウエハ22の表面像(キズ像)の検出を行う第2カメラ28とを具えている。画像処理部12は、テンプレートマッチングに基づいて検出した表面像の良否の判定を行う画像処理装置32と、検出した表面像や判定結果の表示を行うディスプレイ装置34とを具えている。

Claim (excerpt)：

ウエハの表面に形成されるパターンの外観検査を行うに当たり、基準ウエハの表面像を検出して、該表面像を基準画像として画像メモリ部に格納するステップと、検査対象であるウエハの表面像を被検査画像として検出するステップと、前記画像メモリ部から前記基準画像を読み出して、該基準画像と前記被検査画像とを比較するステップと、該比較結果に応じて前記ウエハの良否判定を行うステップとを含むことを特徴とするウエハのマクロ検査方法。

IPC (3)：

H01L 21/66 , G01B 11/30 , G01N 21/88

FI (3)：

H01L 21/66 J , G01B 11/30 D , G01N 21/88 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

半導体チップの外観検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-174117 Applicant：松下電工株式会社
欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-295606 Applicant：株式会社ニコン
外観検査用照明装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-217899 Applicant：ソニー株式会社

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