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J-GLOBAL ID:200903065266225857
有機半導体層およびその改善
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (6):
葛和 清司
, 稲宮 真衣子
, 望月 史郎
, 井上 洋一
, 三橋 規樹
, 丸山 芳子
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006540612
Publication number (International publication number):2007519227
Application date: Nov. 25, 2004
Publication date: Jul. 12, 2007
Summary:
有機半導体層処方であって、3.3以下の1,000Hzでの誘電率εを有する有機結合剤および式A:式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、およびR12のそれぞれは、同一または異なっていてもよく、独立して、水素;任意に置換されたC1〜C40のカルビルまたはヒドロカルビル基;任意に置換されたC1〜C40のアルコキシ基;任意に置換されたC6〜C40のアリールオキシ基;任意に置換されたC7〜C40のアルキルアリールオキシ基;任意に置換されたC2〜C40のアルコキシカルボニル基;任意に置換されたC7〜C40のアリールオキシカルボニル基;シアノ基(-CN);カルバモイル基 (-C(=O)NH2);ハロホルミル基(-C(=O)-X、式中、Xは、ハロゲン原子を示す。);ホルミル基(-C(=O)-H);イソシアノ基;イソシアネート基;チオシアネート基またはチオイソシアネート基;任意に置換されたアミノ基;ヒドロキシ基;ニトロ基;CF3基;ハロ基(Cl、Br、F);任意に置換されたシリル基であり、;および式中、R2およびR3および/またはR8およびR9は、C4〜C40の飽和または不飽和の環を形成するように架橋されていてもよく、飽和または不飽和の環は、酸素原子、硫黄原子、式-N(Ra)-(式中、Raは、水素原子または任意に置換された炭化水素基)で示される基が介在していてもよく、または任意に置換されていてもよい、;および式中、ポリアセン骨格の1または2以上の炭素原子は、N、P、As、O、S、SeおよびTeから選択されるヘテロ原子によって任意に置換されていてもよい;および式中、独立して、ポリアセンの隣接する環の位置に存在するいずれの2または3以上の置換基R1〜R12は、ともに、ポリアセンに融合した、任意にO、Sまたは-N(Ra)(Raは、上記定義のとおりである)が割り込まれたさらにC4〜C40の飽和または不飽和の環または芳香族環系を構成してもよい、;および式中、nは、0、1、2、3または4である、のポリアセン化合物を含む、前記処方。
Claim (excerpt):
有機半導体層処方であって、1,000Hzで3.3以下の誘電率εを有する有機結合剤および式A:
IPC (8):
H01L 51/30
, C08L 101/00
, C08K 5/54
, C08K 5/56
, H01L 51/05
, H01L 51/40
, C07F 7/08
, C07F 7/12
FI (8):
H01L29/28 250H
, C08L101/00
, C08K5/54
, C08K5/56
, H01L29/28 100A
, H01L29/28 310J
, C07F7/08 C
, C07F7/12 D
F-Term (15):
4H049VN01
, 4H049VP02
, 4H049VQ08
, 4H049VQ10
, 4H049VR24
, 4H049VU24
, 4H049VW02
, 4J002BC011
, 4J002BC081
, 4J002BC091
, 4J002BF011
, 4J002EX016
, 4J002EZ006
, 4J002FD206
, 4J002GQ05
Article cited by the Patent: