Pat

J-GLOBAL ID：200903065278205789

回転型気相成長装置及び気相成長方法

Inventor： 福山 聡 ,  浅野目 裕
Applicant, Patent owner： 東芝機械株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998221815
Publication number (International publication number)：2000058527
Application date： Aug. 05, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 トレンチの埋め込み性を改善することができる回転型の気相成長装置を提供する。【解決手段】 被処理基板1は反応室3内のステージ2にセットされ、ステージ2は所定の回転数で回転される。反応ガス供給配管14の途中には、コントロールバルブ15が設けられ、反応室3内への反応ガスの供給及び停止(または流量制御)を行う。コントロールバルブ15を制御するバルブ制御装置21は、記憶部及びバルブ駆動制御部などから構成される。記憶部には、反応室3内へ反応ガスを断続的に(または流量を繰り返し変化させて)供給するため、反応ガスの供給パターンを設定したプログラムが登録される。バルブ駆動制御部は、この記憶部に登録されたプログラムに基づいて、on/off(または流量制御)信号をコントロールバルブ15に送り、コントロールバルブ15の制御を行う。

Claim (excerpt)：

反応室と、反応室内に配置され、平板状の被処理基板を保持して所定の回転数で回転するステージと、反応室内に反応ガスを供給する反応ガス供給配管と、反応ガス供給配管の途中に設けられ、反応室内への反応ガスの供給及び停止を行うコントロールバルブと、コントロールバルブを制御するバルブ制御装置とを備え、前記被処理基板を回転させながら反応室内に反応ガスを供給して、前記被処理基板上に薄膜を堆積する回転型気相成長装置において、前記バルブ制御装置は、前記反応室内への反応ガスの供給量を所定間隔で繰り返し変化させるための供給パターンを設定したプログラムを登録しておく記憶部と、この記憶部に登録された前記プログラムに基づいて前記コントロールバルブの制御を行うバルブ駆動制御部と、を備えたことを特徴とする回転型気相成長装置。

IPC (2)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/205

FI (2)：

H01L 21/31 B ,  H01L 21/205

F-Term (12)：

5F045AA03 ,  5F045AB32 ,  5F045AC01 ,  5F045AF03 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045DP28 ,  5F045EE12 ,  5F045EE19 ,  5F045EK07 ,  5F045GB05 ,  5F045GB16