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J-GLOBAL ID：200903065282378205

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
神田 博美

About 神田 博美


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (4)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006058328
Publication number (International publication number)：2006276851
Application date： Mar. 03, 2006
Publication date： Oct. 12, 2006
Summary：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、露光から後加熱までの経時での露光ラチチュードの変化を小さくするとともに液浸露光時と通常露光時との感度変化を小さくしたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】塩基性を示す構造を有し、且つ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
塩基性を示す構造を有し、且つ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (2)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (9)：
2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (7)
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