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J-GLOBAL ID:200903065296411000
基板の欠陥検査装置及び欠陥検査方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
宮川 貞二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997164951
Publication number (International publication number):1998339701
Application date: Jun. 06, 1997
Publication date: Dec. 22, 1998
Summary:
【要約】【課題】 基板の各層毎の種々の欠陥を高い信頼性をもって検査する。【解決手段】 基板Wの表面の法線に対して光軸が80°〜89°の角度θiをもって配置された照明光学系10と、前記照明光学系10によって照明された基板Wの表面に関する情報を含んだ光を受光する受光手段30と、前記基板Wからの所定の光を選択的に受光するために、前記受光手段の受光角を設定する受光角設定手段40と、前記基板Wの表面と交差する軸線回りに前記基板を回転させる回転機構50とを備える。照明光学系の光軸が基板表面の法線に対して90°に近い角度をもって配置されているので、照明光の大半が基板の表面で反射され、主として基板の表面の情報が取り出される。
Claim (excerpt):
基板の欠陥検査装置であって;前記基板の表面の法線に対して光軸が80°〜89°の角度をもって配置された照明光学系と;前記照明光学系によって照明された基板の表面に関する情報を含んだ光を受光する受光手段と;前記基板からの所定の光を選択的に受光するために、前記受光手段の受光角を設定する受光角設定手段と;前記基板の表面と交差する軸線回りに前記基板を回転させる回転機構とを備えることを特徴とする;基板の欠陥検査装置。
IPC (2):
FI (2):
G01N 21/88 E
, G01N 21/84 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開昭62-127652
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表面欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-213088
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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位置読取り可能なマクロ検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-031061
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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