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J-GLOBAL ID:200903065329737357

酸素の選択的吸着のための分子間結合された遷移元素錯体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000374187
Publication number (International publication number):2001198456
Application date: Dec. 08, 2000
Publication date: Jul. 24, 2001
Summary:
【要約】【課題】 ガス状混合物から酸素を選択的に吸着させる方法及び組成物を提供する。【解決手段】 化学的収着が、分子間結合されたTEC単位であって、このTEC単位がそれぞれの単位上で少なくとも1個の五又は六員のキレート環を形成する少なくとも1個の多座配位子を更に含むようなものからなる多孔質三次元遷移元素錯体によって行なわれる。
Claim (excerpt):
ガス混合物のある成分を選択的に吸着させるにあたり、該混合物を次式:【化1】を有する複数の遷移元素錯体(TEC)の多孔質骨格構造よりなる固体状選択的吸着剤物質と接触させることからなる、ガス混合物のある成分を選択的に吸着させるための方法:{上記の式で、(a)Mは第一遷移金属イオンであり、(b)D〜D4は第一ドナーであり、mは0又は1であり、D〜D4の少なくとも3個は、M上の第一ドナー配位部位を占有するが、該成分がMと反応するためにM上に少なくとも1個の空いた配位部位を残すようにし、(c)G〜G4は官能基であり、nは0又は1であり、G〜G4の少なくとも1個は少なくとも3個の隣接第一ドナーに分子内結合して第一遷移金属イオン上に少なくとも1個の5又は6員のキレート環を形成し且つそれに少なくとも3個のドナーを与えるものとし、(d)M、D〜D4及びG〜G4は一緒になって1個以上の遷移金属錯体を画定し、ここに該錯体は同一でも異なっていてもよく、kは0〜4であり、(e)Rは(i)それぞれのTEC上で基G〜G4の1個以上に結合した第二ドナーと配位した第二金属イオン、(ii)それぞれのTEC上で基G〜G4の1個以上と共有結合を形成する多官能有機基、(iii)それぞれのTEC上で基G〜G4の1個以上と水素結合を形成する官能基、又は(iv)それぞれのTECを離間させてそれらを分離する非配位性対イオンから選択される分子間連結基であり、R基はそれぞれのTECを互いに結合させ及び(又は)離間させてそれらを多孔質骨格構造内に保持するものとし、zは1〜8であり、zが1よりも大きいときはRは同一でも異なっていてもよく、(f)yは所望の成分を選択的に吸着させるために複数のTECの多孔質骨格構造を与えるのに十分な整数である}。
IPC (5):
B01J 20/22 ,  C07C251/12 ,  C07F 1/02 ,  C07F 15/06 ,  C07F 19/00
FI (5):
B01J 20/22 A ,  C07C251/12 ,  C07F 1/02 ,  C07F 15/06 ,  C07F 19/00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
  • 新規ジカルボン酸金属錯体及びガス吸蔵材
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-122160   Applicant:大阪瓦斯株式会社
  • 特開昭60-118601
  • 酸素選択性収着剤
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-014772   Applicant:プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド
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Cited by examiner (6)
  • 新規ジカルボン酸金属錯体及びガス吸蔵材
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-122160   Applicant:大阪瓦斯株式会社
  • 特開昭60-118601
  • 特開昭60-118601
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