Pat

J-GLOBAL ID：200903065363078370

基板冷却方法

Inventor： 野中 英幸
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 亀谷 美明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996165320
Publication number (International publication number)：1997326385
Application date： Jun. 04, 1996
Publication date： Dec. 16, 1997
Summary：

【要約】【目的】 LCD用被処理基板に対してプラズマ処理を施す際の効率的な基板冷却方法を提供する。【構成】 プラズマ処理前に真空引き手段120を作動させておき、バルブ116及び126のみを開放することにより、処理室102内を減圧雰囲気とする。そして、処理室102内の下部電極106上にLCD被処理基板Pを載置後、バルブ138の開放によって処理ガスを処理室102内に導入すると、LCD被処理基板P裏面の圧力が処理室102内の圧力よりも減圧雰囲気となるため、生じた圧力差により、LCD被処理基板Pは下部電極106に吸着保持される。下部電極106内には冷媒循環路112が設けられており、所定の温度が維持されているため、プラズマ処理中に発生したLCD被処理基板P表面の熱は、下部電極106へ放熱される。

Claim (excerpt)：

処理室内においてLCD用被処理基板に対してプラズマ処理を施す処理装置において、載置台上に載置された被処理基板を冷却する方法であって、少なくともプラズマ処理中は処理室内の圧力よりも前記載置台上に載置される前記被処理基板の裏面の圧力を減圧雰囲気に保持し、前記被処理基板を前記載置台の載置面に密着させることを特徴とする、基板冷却方法。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/302 B ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/68 N