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J-GLOBAL ID：200903065385042922

オゾン処理装置

Inventor： 島崎 弘志 ,  鮫島 正一 ,  秦野 薫
Applicant, Patent owner： 株式会社明電舎
Agent (1)： 志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995312051
Publication number (International publication number)：1997150166
Application date： Nov. 30, 1995
Publication date： Jun. 10, 1997
Summary：

【要約】【課題】 オゾンガス下方注入式オゾン反応槽によってオゾン被処理水とオゾンガスを接触、反応せしめるオゾン処理装置において、施設の水深を従来よりも1/4〜1/5に低減することができ、しかも通常のUチューブ式オゾン反応槽と同等の水圧によるオゾン溶解効果が得られるようにする。【解決手段】 ポンプ25からオゾン被処理水が導入される配管26の端部に、流速を速める配管急縮部31を介して、配管26よりも内径の小さい配管27,29を設け、該配管29の端部をオゾン反応塔21内に導入する。配管29には、導入したオゾンガスを散気するためのマイクロ散気部28を設けるとともに、散気されたオゾンガスを更に微細化する急縮板を設ける。

Claim (excerpt)：

オゾンガス下方注入式オゾン反応槽によってオゾン被処理水とオゾンガスを接触、反応せしめるオゾン処理装置において、一端からオゾン被処理水が導入される第1の配管と、一端がオゾン反応塔の下方に導入され、前記第1の配管よりも小さい内径を有する第2の配管と、前記第1、第2の配管の他端どうしをつなぐ部位に設けられた配管急縮部と、前記第2の配管内部に設けられ、導入したオゾンガスを散気するためのマイクロ散気部とを備えたことを特徴とするオゾン処理装置。

IPC (3)：

C02F 1/78 ,  B01F 1/00 ,  B01F 3/04

FI (3)：

C02F 1/78 ,  B01F 1/00 A ,  B01F 3/04 C