Pat

J-GLOBAL ID：200903065423288280

高屈折率のフェノール変性シロキサン

Inventor： ウイリアム・ジョン・ラレイフ ,  ジェームス・アーサー・カンパグナ ,  マイケル・アンソニイ・ルカレリ
Applicant, Patent owner： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
Agent (1)： 生沼 徳二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993205953
Publication number (International publication number)：1994184310
Application date： Aug. 20, 1993
Publication date： Jul. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】 優れた光学特性、特に、高い屈折率を示すシロキサンを提供する。【構成】 比較的低い屈折率の「フェノール変性シロキサン」中に、アリール変性シロキシ単位を組み込むことにより、高屈折率のシロキサンを提供する。斯かるフェノール変性アリール変性シロキサンは、高屈折率物質を必要とする多くの用途に適した優れた光学特性を示す。又、改善された屈折率の該アリール変性フェノール変性シロキサンは、少なくとも50重量%の芳香族を含有する。

Claim (excerpt)：

一般式:M’Dx D’y M’のシロキサンを含有して成る、高屈折率のフェノール変性シロキサン(式中、各M’は独立的にフェノール変性ジアルキルシロキシ基又はアリール変性ジアルキルシロキシ基を表わし、Dはジアルキルシロキシ基を表わし、そして各D’は独立的にフェノール変性アルキルシロキシ基又はアリール変性アルキルシロキシ基を表わすが、たゞし該シロキサンはフェノール変性及びアリール変性シロキシ基の両者を含むものとし、xは約1より大であり、且つ、yは約1より大である)。

IPC (2)：

C08G 77/38 NUF ,  G02B 1/04