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J-GLOBAL ID：200903065479493324

プラズマ処理装置、プラズマ処理監視用窓部材及びプラズマ処理装置用の電極板

Inventor：
大川 義仁

About 大川 義仁

, 
林 大輔

About 林 大輔


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 小原 肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999155539
Publication number (International publication number)：2000349070
Application date： Jun. 02, 1999
Publication date： Dec. 15, 2000
Summary：
【要約】【課題】 従来のプラズマ処理装置の場合には、モニター用の窓が電極に形成されていると、窓の形態によっては電極間の電界が大きく影響され、しかも電極にガス分散孔が形成されたものであれば窓の影響でプロセスガスを均一に供給することができず、均一なプラズマ処理が難しい。【解決手段】 本発明のプラズマ処理装置は、処理容器1内に配置されてその内部にプロセスガスを供給する複数のガス分散孔2Dを有する上部電極2と、上部電極2との間でプラズマを発生させて被処理体にプラズマ処理を施す下部電極3と、これら両電極間のプラズマ処理を監視するための計測光の光路11を有する窓部材4とを備え、4個の開口部2Fをガス分散孔2Dの間にその配列を犠牲にすることなく介在させて上部電極2に設けると共に、光路11をガス分散孔2Dから遮断して開口部2Fに連接したことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
処理容器内に配置されてその内部にプロセスガスを供給する複数のガス分散孔を有する第1の電極と、第1の電極と所定間隔を空けて対向し且つ第1の電極との間でプラズマを発生させて被処理体にプラズマ処理を施す第2の電極と、これら両電極間のプラズマ処理を監視するための計測光の光路を有する窓部材とを備えたプラズマ処理装置において、少なくとも一つの開口部を上記ガス分散孔の間にその配列を犠牲にすることなく介在させて第1の電極に設けると共に、上記光路を上記ガス分散孔から遮断して上記開口部に連接したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (3)：
H01L 21/302 E ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 M
F-Term (18)：
5F004AA01 ,  5F004AA15 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB28 ,  5F004BC01 ,  5F004CB02 ,  5F004CB10 ,  5F004DA01 ,  5F004DB03 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045DP03 ,  5F045EB10 ,  5F045EC03 ,  5F045EF05 ,  5F045EH13 ,  5F045GB09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 特開平2-023617
  • 特開平3-148118
  • 半導体製造装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-324653   Applicant：株式会社日立製作所
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