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J-GLOBAL ID：200903065480461258

露光マスクの製造方法

Inventor： 加茂 隆 ,  渡辺 秀弘 ,  鈴木 浩二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 外川 英明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996171918
Publication number (International publication number)：1998020471
Application date： Jul. 02, 1996
Publication date： Jan. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 透光部通過光と位相シフタ通過光の位相差、位相シフタ通過光の強度の露光による経時変化、薬品等による経時変化を低減させる。【解決手段】 基板101上に半透明膜103を形成すると同時に基板101を300°Cに加熱し、その後基板101を成膜チャンバから取り出す。

Claim (excerpt)：

成膜チャンバ内においてマスク基板を所定の温度に加熱する工程と、前記成膜チャンバ内において半透明膜を前記所定の温度に加熱されている前記マスク基板の上に成膜する工程を具備することを特徴とする露光マスクの製造方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 L ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528