Pat

J-GLOBAL ID：200903065516732776

金属とITOのエッチング方法

Inventor： 高畠 勝 ,  和久井 陽行 ,  三村 秋男 ,  小西 信武 ,  折付 良二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992243016
Publication number (International publication number)：1994097122
Application date： Sep. 11, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】金属/ITO(Indium Tin Oxide)のエッチングに好適なガスを提供する。【構成】金属とITOの多層膜エッチングはBCl3とHClの混合ガスで行う。【効果】AlとITOの多層膜のエッチングにBCl3 とHClの混合ガスを用いると、BCl3 はAlの自然酸化膜のエッチングが可能で、HClはAlとITOのエッチングが可能なので、AlとITOの多層膜の一括エッチングができる。したがって、BCl3 とHClの混合ガスは金属/ITOのエッチングに好適である。

Claim (excerpt)：

金属とITOの多層膜をエッチングする手法において、金属とITOの多層膜エッチングはBCl3 とHClの混合ガスで行うことを特徴とする金属とITOのエッチング方法。

IPC (3)：

H01L 21/302 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 29/784