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J-GLOBAL ID：200903065552391535
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996077992
Publication number (International publication number)：1997270105
Application date： Mar. 29, 1996
Publication date： Oct. 14, 1997
Summary：
【要約】【課題】 下部ポールと上部ポールとが高精度に位置合わせされ、磁気ギャップからの漏洩磁界が少なく、効率良く記録や再生を行うことを可能とする。【解決手段】 下部磁性体4と、この下部磁性体4と対向して設けられて後端部11Bが下部磁性体4と磁気的に接続された上部磁性体11と、この下部磁性体4の先端部4A上に設けられた下部ポール5と、この下部ポール5上に設けられた非磁性ギャップ層6と、上部磁性体11の先端部11Aに設けられた上部ポール7とを備える。ここで、上部ポール7は、下部ポール5上に非磁性ギャップ層6を介して重ね合わされ、一括形成される。また、下部磁性体4と上部磁性体11とは、ギャップ長に対して5倍以上離して対向させることにより、漏洩磁界の範囲を抑制して磁界を効率良く出力することができる。
Claim (excerpt)：
下部磁性体と、この下部磁性体と対向して設けられて後端部が下部磁性体と磁気的に接続された上部磁性体と、この下部磁性体の先端部上に設けられた下部ポールと、この下部ポール上に設けられた非磁性ギャップ層と、上部磁性体の先端部に設けられた上部ポールとを備え、上部ポールは、下部ポール上に非磁性ギャップ層を介して重ね合わされたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
FI (2)：
G11B 5/31 D
, G11B 5/31 C
