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J-GLOBAL ID：200903065647269451

足の形測定装置及び測定方法

Inventor： リー ヒーマン ,  キム ヨンジン ,  キム シキョン
Applicant, Patent owner： リー ヒーマン ,  キム ヨンジン ,  キム シキョン
Agent (1)： 森田 憲一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001287970
Publication number (International publication number)：2002172104
Application date： Sep. 21, 2001
Publication date： Jun. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】 短時間内に足裏及び/または上側部の形状をスキャニングして足の形状に対するピクセルデータを生成し、生成されたピクセルデータを利用して足の主な寸法及び最終設計に必要な情報を計算する足の形測定装置及び測定方法を提供する。【解決手段】 本発明は、ユーザが足を載せることのできる基板が具備され、前記基板に載せられた足に光を照射し反射される光の情報を分析して足の形状に対するピクセルデータを生成して、外部に伝送する足のデータ生成手段と、前記足のデータ生成手段から伝送されたピクセルデータをラインスキャンアルゴリズム及び/またはステレオビジョンアルゴリズムで分析して足のイメージを生成する画像処理手段とを含む。

Claim (excerpt)：

ユーザが足を載せることのできる基板が具備され、前記基板に載せられた足に光を照射し反射される光の情報を分析して足の形状に対するピクセルデータを生成して、外部に伝送する足のデータ生成手段と、前記足のデータ生成手段から伝送されたピクセルデータをラインスキャンアルゴリズム及び/またはステレオビジョンアルゴリズムで分析して足のイメージを生成する画像処理手段とを含むことを特徴とする足の形測定装置。

IPC (2)：

A61B 5/117 ,  A43D 1/02

FI (2)：

A43D 1/02 ,  A61B 5/10 320 D

F-Term (10)：

4C038VA04 ,  4C038VB14 ,  4C038VB16 ,  4C038VC01 ,  4F050AA01 ,  4F050AA06 ,  4F050KA08 ,  4F050LA01 ,  4F050LA02 ,  4F050NA86

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特表平5-507630
  
• 特表平5-506369
  
• 特表平5-507211
  
• 形状測定方法とその測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-164865   Applicant：松下電器産業株式会社