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J-GLOBAL ID：200903065651827531

洗浄剤組成物

Inventor： 岡田 万佐夫 ,  今西 正樹 ,  中川 登志子
Applicant, Patent owner： メツク株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991315247
Publication number (International publication number)：1993125395
Application date： Nov. 05, 1991
Publication date： May. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、プリント基板製造時における任意の工程で基板上に残留するフラックスおよび再融解液を洗浄するための、洗浄剤組成物を供するものである。【構成】 本発明の洗浄剤組成物は、グリーコール系溶剤、アミン類および/または界面活性剤、必要に応じて水を含有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

プリント基板製造時における任意の工程で基板上に残留するフラックスおよび再融解液を洗浄するための、グリコール系溶剤、アミン類および/または界面活性剤からなる洗浄剤組成物。

IPC (6)：

C11D 7/50 ,  B23K 1/00 ,  H05K 3/26 ,  H05K 3/34 ,  C11D 7:26 ,  C11D 7:32