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J-GLOBAL ID：200903065667346118

反射防止膜材料用組成物

Inventor： 水谷 一良 ,  百田 淳
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996343738
Publication number (International publication number)：1998186671
Application date： Dec. 24, 1996
Publication date： Jul. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 光吸光度が大きく、解像力、膜厚依存性が良好で優れたレジストパターンが得られ、大きなドライエッチング速度を有する反射防止膜材料用組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。【解決手段】 ナフタレン環を有する特定の構造の基を有する高分子化合物を含有する反射防止膜材料用組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成法。

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)又は一般式(II)で示される構造を側鎖に有する高分子化合物を含むことを特徴とする反射防止膜材料用組成物。【化1】【化2】式(I)あるいは(II)において、Wは高分子主鎖への連結基を表し、Yは酸素原子、イオウ原子または=N-Vを表し、Z1 、Z2 は同一でも異なってもよく電子供与性基を表し、mは0〜2、nは0〜3の整数を表す。m、nが2〜3の場合、Z1 、Z2 はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Vは-OH、-NH2 または炭素数1〜20の直鎖、分岐、環状のいずれでもよいアルキル基(これらは置換基を有していてもよい)、置換基を有していてもよい炭素数5〜14の芳香環基あるいはヘテロ芳香環基、または炭素数1〜20のアルコキシ基を表す。

IPC (5)：

G03F 7/11 503 ,  C09D 5/00 ,  C09D201/06 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/11 503 ,  C09D 5/00 M ,  C09D201/06 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/30 574