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J-GLOBAL ID：200903065686402657
金属ケイ素の処理方法及び装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995198121
Publication number (International publication number)：1997025112
Application date： Jul. 11, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：
【要約】【解決手段】 金属ケイ素を非酸化性ガス雰囲気下において1150°C以上の温度域で処理する方法において、この処理によって生じる排ガスをガス排気管内に1100°C以上の温度を保持して流通させると共に、この1100°C以上に保持した排ガスを一酸化ケイ素トラップ装置に導入し、このトラップ装置で1100°C未満に急冷して、上記排ガス中の一酸化ケイ素を上記トラップ装置内で析出除去することを特徴とする金属ケイ素の処理方法。【効果】 本発明によれば、ガス排気管内壁への一酸化ケイ素の析出・付着によるガス排気管の閉塞を防止でき、安定定常運転を可能とするものである。
Claim (excerpt)：
金属ケイ素を非酸化性ガス雰囲気下において1150°C以上の温度域で処理する方法において、この処理によって生じる排ガスをガス排気管内に1100°C以上の温度を保持して流通させると共に、この1100°C以上に保持した排ガスを一酸化ケイ素トラップ装置に導入し、このトラップ装置で1100°C未満に急冷して、上記排ガス中の一酸化ケイ素を上記トラップ装置内で析出除去することを特徴とする金属ケイ素の処理方法。
IPC (2)：
FI (2)：
C01B 33/02 Z
, C01B 21/068 D
