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J-GLOBAL ID：200903065724701809

多孔体の製造方法

Inventor： 稲垣 伸二 ,  福嶋 喜章 ,  山田 有理
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所
Agent (1)： 高橋 祥泰
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995179566
Publication number (International publication number)：1996067578
Application date： Jun. 21, 1995
Publication date： Mar. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 結晶性と耐熱性に優れ,かつ不純物を含有していない多孔体の製造方法を提供すること。【構成】 ケイ素を含有する物質を界面活性剤が溶解した水溶液中に分散させ,該分散液のpHを10以上とする第一工程と,上記分散液のpHを10未満かつ温度を50°C以上とすることにより,ケイ素の酸化物と界面活性剤との複合体を形成する第二工程と,上記複合体より界面活性剤を除去する第三工程とよりなる。

Claim (excerpt)：

ケイ素を含有する物質を界面活性剤が溶解した水溶液中に分散させ,該分散液のpHを10以上とする第一工程と,上記分散液のpHを10未満かつ温度を50°C以上とすることにより,ケイ素の酸化物と界面活性剤との複合体を形成する第二工程と,上記複合体より界面活性剤を除去する第三工程とよりなることを特徴とする多孔体の製造方法。

IPC (3)：

C04B 38/06 ,  B01J 20/10 ,  C01B 33/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開平4-210227
  

Cited by examiner (1)

• 特開平4-210227