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J-GLOBAL ID：200903065729793345

成膜用メタルマスク及びその製造方法

Inventor： 沢村 光治
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 渡辺 敬介 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997076833
Publication number (International publication number)：1998265940
Application date： Mar. 28, 1997
Publication date： Oct. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】 液晶パネルのITO膜をマスク成膜する際に用いるメタルマスクの搬送トラブルを防止する。【解決手段】 メタルマスク1の遮蔽部3を部分的にハーフエッチング処理して領域4を形成し、メタルマスク同士及びメタルマスクと基板との密着面積を減らし、密着力を低下させる。

Claim (excerpt)：

金属板にエッチングにより成膜用開口部を設けると同時に、該開口部を形成する遮蔽部のエッジ部分を成膜面側からハーフエッチング処理することを特徴とする成膜用メタルマスクの製造方法。

IPC (6)：

C23C 14/04 ,  C23C 14/08 ,  C23C 16/04 ,  C23F 1/02 ,  H01L 21/28 ,  H01L 21/205

FI (6)：

C23C 14/04 A ,  C23C 14/08 D ,  C23C 16/04 ,  C23F 1/02 ,  H01L 21/28 E ,  H01L 21/205